详细信息
氧化扩散炉产品应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用2~8英寸工艺尺寸
扩散炉产品特点：
◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、阀门等动作进行自动控制
◆采用悬臂送片器：操作方便、无摩擦污染等
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染（管路均采用EP级电抛光管路），流量控制采用进口质量流量计（MFC）
◆控温精度高，温区控温稳定性好；扩散炉主要技术指标
◆工作温度：200～1300℃
◆加热体控制点：3/5点
◆炉体恒温区：450mm/600mm/800mm/1100mm
◆恒温区精度：＞800℃/±0.5℃，＜800℃/±1℃
◆单点温度稳定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
◆*可控升温速度：15℃/min
◆*降温速度：5℃/min（900～1300℃）
◆供电：三相四线，380VAC/50HZ
◆局部净化等级：100级。
◆氧化系统：干氧、湿氧（氢氧内外点火）
氧化扩散炉,半导体扩散炉,扩散炉炉体
