扩散炉--立式扩散炉--高温扩散炉

立式扩散炉

设备用途：

CL系列的立式扩散炉为我公司根据客户需求定制的专用设备，用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺

结构形式：立式

使用温度：1150℃

恒温区：750mm

控温精度：±2℃

加热方式：旋转式加热

控制方式：工控机

我公司可根据客户要求，专业定制各式扩散炉、退火炉、烧结炉、真空焊接炉、CVD炉、加热

电炉及加热装置等，欢迎广大客户来电咨询。